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钙钛矿旋涂仪-桌上型显影机/成像仪-合肥重光电子科技有限公司 24 小时销售热线15955179814 首页 关于我们 产品中心 --> 新闻资讯 技术文章 在线留言 联系我们 合肥重光电子科技有限公司— 期待与您的来电合作！ 15955179814 热门搜索：CG-H20HMDS增粘涂胶机SHD6-BE全柜式涂胶显影一体机CG-920光刻工艺设备CGSR系列膜厚测量仪CGST3100全自动去胶机CG-MLC6直写光刻机MSD-150D桌上型成像仪MSD-150D桌上型显影机MSC-75T钙钛矿旋涂仪MSC-75T旋涂仪MSC-200T-D自动滴胶匀胶机MSC系列匀胶机UV-8紫外臭氧清洗机MAS4-BE曝光系统一体机HPR-1212寸烤胶机/加热板MSC-150T桌上型旋转涂布机 Recommended Products 推荐产品 光刻工艺设备 全自动去胶机 旋涂仪 自动滴胶匀胶机 匀胶机 桌上型旋转涂布机 烤胶机 全柜式涂胶显影机 针筒式旋转涂布机 桌上型旋转涂布机 ABOUT OUR COMPANY 关于我们 合肥重光电子科技有限公司是一家专业从事仪器设备的生产商。针对国家大力扶持的太阳能电池和半导体等科技领域。我司有专业的检测仪器和工艺实验设备，能够满足不同客户的打样和定制化需求。同时我司与中国科学技术大学微纳加工平台、合肥工业大学微纳加工平台保持技术上的交流，能有效帮助客户解决工艺问题。我司提供产品的定制化代工业务，满足客户对自营品牌的需求，让客户从而实现资产轻量化运营。我司产品优势：提供定制化服务，满足客户多样化需求，从而为客户节约更多科研经费。其中低速匀胶平稳，结束低粘度光阻匀胶依赖进口品牌。 查看详情 15955179814 317399383@qq.com 安徽省合肥市经开区宿松路9996号 2019 公司成立于2019年 100 注册资金100万 365 365天用心服务客户 PRODUCT CENTER 产品中心 光刻机 去胶清洗 涂胶显影机 膜厚测量仪器 烘烤加热固化 CG-H20HMDS增粘涂胶机产品型号：CG-H20 SHD6-BE全柜式涂胶显影一体机产品型号：SHD6-BE CG-920光刻工艺设备产品型号：CG-920 CGSR系列膜厚测量仪产品型号：CGSR系列 CGST3100全自动去胶机产品型号：CGST3100 CG-MLC6直写光刻机产品型号：CG-MLC6 MSD-150D桌上型成像仪产品型号：MSD-150D MSD-150D桌上型显影机产品型号：MSD-150D MSC-75T钙钛矿旋涂仪产品型号：MSC-75T MSC-75T旋涂仪产品型号：MSC-75T MSC-200T-D自动滴胶匀胶机产品型号：MSC-200T-D MSC系列匀胶机产品型号：MSC系列 Technical Articles 技术文章 2025-1219 匀胶机在半导体及精密器件制造中的应用与操作要点 匀胶机是半导体晶圆、光学镜片、精密传感器等器件制备过程中，实现高精度薄膜涂覆的核心设备，其基于旋转离心力原理，将液态光刻胶或功能涂层均匀涂覆在基片表面，直接影响器件的性能与良率。一、匀胶机的工作原理与核心结构匀胶机的工作过程分为滴胶、低速旋转、高速旋转、甩胶回收四个阶段。滴胶阶段将定量胶液滴在基片中心；低速旋转使胶液均匀铺展覆盖基片表面，避免高速旋转时胶液飞溅；高速旋转阶段依靠离心力，让胶液在基片表面形成厚度均匀、一致性高的薄膜，薄膜厚度与转速呈负相关；最后，多余胶液被甩入回... 2025-129 半导体设备：构筑芯片产业的“坚实基石” 半导体设备是芯片研发与制造的核心支撑，涵盖光刻、沉积、蚀刻、清洗、检测等全流程，其性能与可靠性直接决定芯片的质量、成本与产能。从原材料加工到芯片封装测试，每一个环节都离不开半导体设备的精准赋能，它不仅是半导体产业的“生产工具”，更是保障产业链自主可控的战略核心。传统半导体设备存在兼容性差、制程适配范围窄等问题，难以满足多品类芯片的制造需求。现代半导体设备通过模块化设计与智能化升级，实现全流程适配：沉积设备采用原子层沉积（ALD）技术，可在晶圆表面形成厚度均匀的纳米级薄膜，满足... 2025-125 等离子清洗机：半导体制造中的精密表面处理核心设备 在半导体器件的制备流程中，晶圆及零部件的表面洁净度直接决定了芯片的良率与性能。传统湿法清洗易残留化学试剂、难以处理微米级精细结构，而等离子清洗机凭借干式、无损伤、高精度的处理特性，成为半导体制造环节中重要的表面处理设备，广泛应用于光刻前预处理、键合前活化、封装去胶等关键工序。一、等离子清洗机的核心工作原理等离子清洗机的核心是通过射频电源激发工作气体，使其电离形成由电子、离子、自由基等组成的等离子体。这些活性粒子具有很高的化学活性与物理动能，可通过两种方式实现表面清洗：1.物理... 2025-1127 膜厚测量仪在多个领域发挥着重要作用 膜厚测量仪是一种利用光学、电学或射线等原理，准确测量薄膜或涂层厚度的仪器，广泛应用于半导体、光学、材料科学、生物医学及环境保护等领域。膜厚测量仪的核心原理基于光的干涉与反射。当光波照射到被测膜层时，部分光波在膜层表面反射，部分穿透膜层并在膜层与基底界面反射。这两部分反射光波因光程差产生干涉现象，形成干涉图样。通过分析干涉图样，可获取光波相位差信息，进而通过数学关系准确计算膜层厚度。这一方法具有非接触、高精度、无损伤等优点，测量精度可达纳米级别。膜厚测量仪作用：半导体制造：半导... 2025-1127 显影机：光刻工艺的“图形显现师” 显影机是光刻工艺中的核心设备，其核心作用是将晶圆表面光刻胶经曝光后形成的“潜影”（肉眼不可见），通过化学作用转化为清晰可见的精细电路图形，是半导体芯片制造、精密电子元件生产中连接“曝光”与“蚀刻”的关键环节。显影机的工作流程可简化为三步：首先，将曝光后的晶圆输送至显影腔室；随后，通过喷淋或浸泡方式，将显影液均匀作用于晶圆表面，选择性溶解未曝光（正胶）或曝光（负胶）的光刻胶，使潜影显现；最后，经清洗去除残留显影液、烘干固化，形成稳定的电路图形基础。其核心结构包括输送系统（保证晶... 2025-1110 半导体涂胶均匀性提升方法：从工艺到设备的全维度优化 半导体涂胶均匀性提升方法：从工艺到设备的全维度优化半导体涂胶作为光刻、蚀刻等核心制程的前置关键步骤，其膜厚均匀性直接影响芯片图形转移精度、电性能一致性及良率。提升涂胶均匀性需围绕“材料适配、设备校准、工艺调控、环境管控”四大核心维度，通过系统性优化实现纳米级膜厚偏差控制，具体方法如下：一、材料特性精准匹配与预处理-优化光刻胶配方参数：根据涂胶方式（旋涂、狭缝涂胶、喷雾涂胶）调整黏度、表面张力及固含量，例如旋涂工艺需降低高黏度胶的剪切稀化效应，狭缝涂胶则需保证胶液在接触晶圆时的... 友情链接 酶制剂浓缩膜 钢制保温提升门 水质检测仪 惠州动持ups厂家 大坝安全监测设备 SFERAX轴承 NORGREN减压阀 IFM传感器 全国咨询热线：15955179814 网站首页 关于我们 产品中心 新闻中心 技术文章 联系我们 地址：安徽省合肥市经开区宿松路9996号 邮箱：317399383@qq.com 扫码加微信 版权所有 © 2025 合肥重光电子科技有限公司 备案号：皖ICP备2025086211号-1 技术支持：化工仪器网 管理登陆 sitemap.xml --> TEL：15955179814 扫码加微信
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